چین قصد دارد تحریم‌های آمریکا علیه صنعت تراشه را بشکند

چین تلاش های خود را برای توسعه راه حل های داخلی در زمینه های مختلف از جمله صنعت تراشه افزایش می دهد.

به گزارش تکنوک، چین برنامه ریزی دقیقی برای دستیابی به خودکفایی کامل در زمینه تولید تراشه دارد. این امر مستلزم آن است که شرکت های داخلی ابزار لازم برای تولید ویفر را خودشان بسازند.

اگرچه تولیدکنندگان موفقی مانند AMEC و Naura Technology در چین برای حکاکی و رسوب گذاری وجود دارد، اما تنها یک سازنده مهم برای ابزارهای لیتوگرافی به نام SMEE وجود دارد.

مطمئناً این کافی نیست و همانطور که South China Morning Post گزارش داد، به نظر می رسد Naura Technology نیز قصد دارد وارد بازار شود. تمژاردور او می نویسد که Naura Technology در حال حاضر یک تولید کننده موفق ابزارهای رسوب بخار شیمیایی و اچ است. این گزارش نشان می دهد که شرکت مذکور تحقیقات اولیه خود را برای توسعه سیستم های لیتوگرافی آغاز کرده است.

برنامه اختصاصی در دسامبر 2023 آغاز شد و از ماه مارس، این شرکت گروه کوچکی از مهندسان را برای بررسی سیستم های لیتوگرافی گرد هم آورده است. SCMP به نقل از منابع آگاه گفت که این حوزه فراتر از تمرکز معمول شرکت بر روی اچینگ و رسوب فیلم است.

این تلاش های تحقیق و توسعه در نهایت محرمانه انجام می شود تا از تحریم های بیشتر ایالات متحده جلوگیری شود. زیرا ایالات متحده آنها را تلاش هایی برای دور زدن کنترل های صادراتی موجود می داند. یک نماینده از Naura روز دوشنبه به SCMP گفت که اطلاعات گزارش شده دقیق نیست. اما وی جزئیات بیشتری ارائه نکرد.

اگرچه هیچ تضمینی برای موفقیت ابتکارات تحقیقاتی لیتوگرافی Naura وجود ندارد، اما این تلاش ها عزم صنعت تراشه چین را برای غلبه بر تحریم های اعمال شده توسط ایالات متحده نشان می دهد. با استناد به نگرانی‌های امنیت ملی، تحریم‌ها به دنبال محدود کردن پیشرفت چین در تولید تراشه و هوش مصنوعی و محاسبات با عملکرد بالا (HPC) هستند.

بر اساس گزارش بلومبرگ، دولت ایالات متحده در حال بررسی اضافه کردن چند شرکت نیمه هادی چینی مرتبط با هواوی به لیست نهادهای خود است که در پی موفقیت هواوی و SMIC در ساخت یک پردازنده تلفن هوشمند با استفاده از فناوری پردازش 7 نانومتری نسل دوم SMIC است. یکی از اهداف بالقوه SiCarrier است، یک تراشه‌ساز دولتی که با هواوی کار می‌کند و پتنت الگوسازی چهارگانه را دریافت کرده است.

دان هاچیسون، معاون شرکت تحقیقاتی IC مستقر در ایالات متحده، اعلام کرده است که تحقیقات SAQP چین احتمالاً شامل شرکت هایی مانند Naura و SMEE خواهد شد. SMEE موفق ترین سازنده ابزارهای لیتوگرافی در چین است و اسکنر با قابلیت 28 نانومتر طراحی کرده است.

هاچیسون می گوید فناوری SiCarrier مراحل فتولیتوگرافی را با مراحل اچ و رسوب جایگزین می کند که وابستگی به ابزارهای لیتوگرافی پیشرفته تولید شده با ASML را کاهش می دهد. این به شرکت‌های چینی فرصتی می‌دهد تا بدون استفاده از جدیدترین ماشین‌آلات شرکت‌های آمریکایی، اروپایی یا ژاپنی، تراشه‌هایی را در گره‌های پیشرفته تولید کنند.