جنسن هوانگ: چین تا سال 2030 به فناوری پیشرفته لیتوگرافی دست خواهد یافت

جنسن هوانگ پیش بینی می کند که چین این کار را خواهد کرد ۲۰۳۰ برای ساخت تجهیزات پیشرفته لیتوگرافی، اگرچه صنعت کشور هنوز از نظر فناوری پیشرفته است ASML دور است.

به گزارش سرویس فناوری مجردچین در سال های اخیر پیشرفت چشمگیری در مسیر خودکفایی فناوری داشته است، اما این کشور هنوز نتوانسته ابزارهای لیتوگرافی را در سطح محصولات ASML توسعه دهد.

این محدودیت با چالش های زیادی برای صنعت نیمه هادی داخلی چین مواجه شده است.

هوانگ در مصاحبه با پادکست All-In درباره توانایی چین برای توسعه چنین تجهیزاتی گفت: “آنها تا سال 2030 به این هدف خواهند رسید. سال 2030 نزدیک است. اگر می خواهید چین را درک کنید، باید بدانید که این کشور در تولید با حجم بالا بسیار خوب است. این فقط یک زمان است.”

مدیر عامل انویدیا معمولاً دیدگاه مثبتی نسبت به پیشرفت فناوری چین دارد.

او قبلاً صنعت هوش مصنوعی چین را «در پشت سر» آزمایشگاه‌های پیشرو ایالات متحده توصیف کرده بود.

سرمایه گذاری گسترده چین در حوزه هوش مصنوعی نیز یکی از عوامل تقویت کننده این دیدگاه است.

وضعیت فعلی تجهیزات لیتوگرافی چین

با این حال، هوانگ ممکن است نسبت به صنعت نیمه هادی چین، به ویژه بخش لیتوگرافی، بیش از حد خوش بین باشد.

در حال حاضر، Shanghai Micro Electronics Equipment یا SMEE، به عنوان تولید کننده پیشرو تجهیزات لیتوگرافی در چین، می تواند اسکنر خشک ArF را با طول موج 193 نانومتر به تولید انبوه برساند.

از این تجهیزات برای ساخت تراشه هایی با فناوری ساخت در کلاس 90 نانومتر استفاده می شود.

همچنین گزارش‌هایی مبنی بر توسعه یک اسکنر ArF غوطه‌وری توسط SMEE که قادر به تولید تراشه‌های کلاس 28 نانومتری است، گزارش شده است.

اما شواهد عمومی مبنی بر تولید انبوه این تجهیزات و استفاده از آنها در تولید تراشه با حجم بالا وجود ندارد.

بیشتر بخوانید: جنسن هوانگ در ضیافت شام ترامپ و شی جین پینگ شرکت می کند